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0917-3664600TA1高纯钛靶99.9%钛圆靶溅射圆靶
钛靶材
TA1高纯钛靶99.9%钛圆靶溅射圆靶
钛含量≥：99.8（%） 杂质含量：0.02（%） 重量：不等（kg/块）
牌号：TA0，TA1，TA2，TA3，TC4(Ti6AL4V)，GR1，GR2，GR3，GR5( Ti6AL4V)
钛圆靶 ：技术条件：符合GB/T2695-1996，ASTMB348-97
钛板靶 ：技术条件：符合GB/T3621-94，ASTM B265-93
用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业
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