TA1高纯钛靶99.9%钛圆靶溅射圆靶
钛靶材
TA1高纯钛靶99.9%钛圆靶溅射圆靶
钛含量≥:99.8(%) 杂质含量:0.02(%) 重量:不等(kg/块)
牌号:TA0,TA1,TA2,TA3,TC4(Ti6AL4V),GR1,GR2,GR3,GR5( Ti6AL4V)
钛圆靶 :技术条件:符合GB/T2695-1996,ASTMB348-97
钛板靶 :技术条件:符合GB/T3621-94,ASTM B265-93
用途:用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层,玻璃镀膜工业
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